大规模集成电路(IC)应用
高端功率半导体（含第三代半导体）应用
什么是光学掩模版
铬版基材性能
产品尺寸与精度规格
光刻设备、辅助设备
MYCRONIC激光直写光刻系统SLX2
先进芯片封装(CSP)应用
传感器(MEMS) 应用
深圳市龙图光罩股份有限公司成立于 2010 年初，是一家集研发、设计、制造和销售于一体的专业制作高精度半导体掩模版的国家高新技术企业。公司现有1级、10级、100级超净厂房2000余平方米，拥有从瑞典、德国、日本等国引进的业内最先进的激光直写光刻设备、全自动后处理设备、自动检查设备（AOI）及测量设备。公司具备完善的质量、环境、信息安全与知识产权管理体系，通过ISO9001、ISO14001、ISO27001等体系认证，并且...[详细]
TIME:2022-10-13
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深圳市龙图光罩股份有限公司成立于 2010 年初，是一家集研发、设计、制造和销售于一体的专业制作高精度半导体掩模版的国家高新技术企业。公司现有1级、10级、100级超净厂房2000余平方米，拥有从瑞典、德国、日本等国引进的业内最先进的激光直写光刻设备、全自动后处理设备、自动检查设备（AOI）及测量设备。公司具备完善的质量、环境、信息安全与知识产权管理体系，通过ISO9001、ISO14001、ISO27001等体系认证，并且...[详细]
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