公司重资引进瑞典MYCRONIC激光直写光刻系统SLX2

SLX2是MYCRONIC最新推出的应用于集成电路（IC）行业的激光直写光刻系统，定位于制作集成电路（IC）0.13um及以上工艺节点光刻掩模版，此型号是OMEGA系列的升级版。

设备最小制作图形0.5um，制作图形质量更优于Omega6800，同时速度提升了2~3倍。

SLX2相关技术指标如下：

线边质量（Edge roughness）3sigma＜12nm；

CD精度控制（Mean to Target）与CD均匀性(uniformity) 3sigma小于15nm；

位置精度（Registration）3sigma＜25nm ；

套刻精度(Overlay)  3sigma＜15nm。