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半导体芯片掩模版介绍
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铬版基材性能
产品概述:
   目前光掩模铬版的基板材料有石英玻璃和苏打玻璃(Soda-lime)两种。苏打玻璃常用在STN-LCD、TN-LCD、FED、EL行业专用光学掩模版基材;石英玻璃通常用在TFT-LCD、IC、高精密光学器件的光掩模版基材中;铬元素作为遮光材料的理由是,铬不但可以镀出均一的厚度,并且在蚀刻制程中还能加工出精细的线路.

类别

苏打基材

石英基材

常规尺寸(mm)

3"X3", 4"X4", 5"X5", 6"X6", 7"X7", 9"X9", 12"X12", 14"X17", 16"X18",20”x24”

450mm×550mm,400mm×400mm, 700mmX800mm

最大尺寸(mm)

850*1200

特殊尺寸(mm)

按客户要求定做(XY=20~609mm

基材厚度(mm)

1.6  2.3 3.0  4.8   7.8   8.0

2.3  3.0  5.0    6.4    8.0

铬膜类型

   ARC Anti-Reflective Chrome

热性能(

710℃

1730℃

温度收缩系数

8.1*10ˉ6(20~200 ℃)

5.0*10-7 /℃ (20~200℃)

透过率

>90%(T=2.3mml=400nm

>90%(T=2.3mml=200nm

折射率

1.52

1.46

垂直入射反射率

8%(片面反射约4%

2%(片面反射约1%

耐酸性能

H2SO4(80℃,99%) 0.1Å/min

H2SO4(80℃,98%) 0.0Å/min

耐碱性能

NaOHWt2%0.8Å/min

NaOHWt2%0.4Å/min

表面平整度

<20um400*400*3.0mm)