2022年10月25日至10月26日，以“创新强链，双驱发展”为主题的2022年中国（深圳）集成电路峰会（以下简称: ICS 2022峰会）在深圳坪山格兰云天国际酒店隆重举行，届时将有众多国内外专家学者、技术大咖和行业领袖汇集于此，共同探讨新形势下集成电路产业发展机遇。
 

本次峰会由一个全球直播、两个主论坛、三个闭门会议、八个平行专题论坛组成，同时设有技术产品展。主题演讲环节内容丰富、异彩纷呈，我们将对此进行专题预告，一起来围观吧!
 

掩模版(mask) 简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中，掩模作为一个光学元件位于会聚透镜 (condenser lens) 与投影透镜(projection lens) 之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模版主要应用于平板显示、半导体、触控和电路板的制造过程，是必不可少的关键材料之一。随着晶圆厂的快速扩产，芯片公司不断推出新的产品料号，对于掩模版的产品需求大幅增加，有望推进市场空间与国产替代的双重增长。
 

在本届ICS2022峰会上，深圳市龙图光罩股份有限公司副总经理王栋将发表《半导体掩模版与制作流程介绍》的主题演讲，重点分享介绍什么是半导体掩模版？掩模版制作流程是怎样的?以及受益于半导体和显示板行业的快速发展，作为不可或缺的重要电子元器件，龙图光罩如何把制作能力与未来高端光导体掩模规划联合发展。

 

嘉宾介绍
王栋，男，从事掩模版行业十五年，任深圳市龙图光罩股份有限公司副总经理。

关于龙图

深圳市龙图光罩股份有限公司是一家集研发、设计、制造和销售于一体的专业制作半导体掩模版的国家高新技术企业，2022年通过国家专精特新“小巨人”企业认定。公司以0.8μm-0.134μm半导体掩模产业化制造技术，为国内IC设计、IC晶圆制造提供优质产品与服务。目前公司聚焦于IC集成电路、功率半导体(含第三代半导体) 、MEMS、先进封装等行业，产品处于国内掩模版行业先进水平。公司以国际一流半导体掩模版企业为标杆，在软硬件方面积极开展创新研发，取得授权的知识产权总数为64项，其中发明专利10项，实用新型专利23项，计算机软件著作权31项。公司通过IS09001质量管理体系认证、IS014001环境管理体系认证、IS027001信息安全管理体系认证。并在生产和运营中导入TQM、零缺陷管理等国际先进的管理方法与管理工具。

文章转自： 深圳市半导体行业协会公众号